磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta的界面研究

摘要：

磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控溅射方法制备.采用角分辨X射线光电子能谱(XPS)研究了反铁磁(NiO)/铁磁(NiFe)界面,结果表明在NiO/NiFe界面发生了化学反应:NiO+Fe=Ni+FeO和3NiO+2Fe=3Ni+Fe2O3,此反应深度约为1～1.5nm.反应产物将影响NiO对NiFe的交换耦合.本研究还表明角分辨XPS是用来表征磁性多层膜界面化学状态的一个有利工具。

关键词： 磁性多层膜 角分辨X射线光电子能谱 NiO/NiFe界面 交换耦合 界面化学状态 界面化学

作者: 于广华 腾蛟 韩刚 冯春

作者单位: 北京科技大学材料物理系,北京,100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2005年全国材料科学与工程学术会议

会议地点: 辽宁锦州

会议语种:中文

页码: 197-201

在线出版日期: 2005-09-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）