CVD自支撑金刚石薄膜微区织构的EBSD检测分析

摘要：

本文利用电子背散射衍射技术检测分析了CVD自支撑金刚石薄膜侧面微区织构和孪晶,计算了”100”、”110”、”111”、”122”、”447”、”148”晶面平行薄膜表面的织构在薄膜生长过程中各阶段所占的比例.研究结果表明,不稳定的沉积温度不利于”100”、”110”、”111”织构的形成,孪晶造成了”122”、”447”、”148”织构.

关键词： 金刚石薄膜 薄膜织构 电子衍射

作者: 朱宏喜 毛卫民 冯惠平

作者单位: 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2005年全国计算材料、模拟与图像分析学术会议

会议地点: 河北秦皇岛

会议语种:中文

页码: 432-436

在线出版日期: 2005-08-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）