用正交试验方法确定SiO2干法刻蚀菜单

摘要：

本文介绍用正交试验方法确定二氧化硅干法刻蚀工艺菜单.还介绍了用该工艺菜单进行刻蚀可得到良好的片内均匀性、片间均匀性及批间重复性.

关键词： 正交试验 均匀性 批间重复性 SiO2 干法刻蚀 工艺菜单

作者: 付玉霞 仲涛 林发永

作者单位: 清华大学微电子研究所,北京,100084

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 73-76

在线出版日期: 2005-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）