应用微波等离子体化学气相沉积法选择性生长定向碳纳米管阵列

摘要：

应用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)在含有图案化的Ni催化剂薄膜上选择性的沉积了定向有序碳纳米管阵列.甲烷(CH4)和氢气(H2)作为反应气体,通过扫描电镜观察到所沉积的碳纳米管阵列仅仅生长在沉积有Ni催化剂的图案上,实现了碳纳米管的选择性生长及可控生长.同时对碳纳米管的生长机理进行了探讨,发现等离子的位置对碳纳米管的生长具有很大的影响,只有等离子体在基片的上方的时候才能够生长出定向有序的碳纳米管阵列.

关键词： 微波等离子体 碳纳米管 选择面积生长 生长机理 化学气相沉积法

作者: 赵约瑟 曾葆青 田浩希 赵艳珩 张文锋

作者单位: 电子科技大学物理电子学院,四川成都,610054

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国微波能应用学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 213-216

在线出版日期: 2005-10-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）