MOS电容的热载流子损伤及其与电离辐射损伤的关系
该文通过国产加固N型MOS电容进行衬底热电子高场注入(SHE)及γ总剂量辐照实验,特别是进行总剂量辐射损伤后的热载子损伤叠加实验,从微观氧化物电荷、界面态的感生变化及其界面态的能量分布变化等角度研究比较了MOS结构热载子损伤特性及与电离辐射损伤的关系。
MOS结构 热载子 电离辐射 氧化物电荷 界面态
任迪远 余学锋 艾尔肯 张国强 陆妩 郭旗
中科院新疆物理研究所
国内会议
江苏扬州
中文
66~71
1999-05-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)