不同氧氩比例对氧化铪(HfO2)薄膜的结构及性能的影响
在不同氧氩比例气氛下,采用直流磁控反应溅射方法制备了HfO2薄膜.利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见光谱(UV-Visiblespectrum)等研究了氧氩比例的不同对HfO2薄膜的晶体结构、化学配比、表面形貌和光学性能的影响.结果显示:室温下,不同氧氩比例的HfO2薄膜都为非晶结构;随着氧分量的减少,Hf4f与O1s的XPS峰向小的结合能方向移动;在氧分量较大的气氛下,HfO2薄膜的化学失配度较小,薄膜均匀,致密,在400-1100nm有良好的光透过性.
HfO2薄膜 直流磁控反应溅射 X射线光电子能谱
何智兵 吴卫东 许华 张继成 唐永建
中国工程物理研究院,激光聚变研究中心
国内会议
福州
中文
369-372
2005-11-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）