金属Hf制备HfO2技术

摘要：

利用离子束辅助蒸发以及双离子束反应溅射沉积技术通过Hf制备了HfO2薄膜,对两种工艺下制备的HfO2薄膜的光学、表面形貌和激光损伤特性进行了研究,并与常用的电子束蒸发制备的HfO2薄膜的相关特性进行了比较.实验结果表明,用金属Hf作为初始材料反应沉积的HfO2薄膜具有较高的激光损伤阈值,其中离子束辅助蒸发技术更加适用于高功率激光系统中尤其是神光系统中大尺寸元件的薄膜制备.

关键词： 金属Hf HfO2薄膜 激光损伤阈值

作者: 张伟丽 范瑞瑛 黄建兵 赵元安 邵建达 范正修

作者单位: 上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国激光科学技术青年学术交流会

会议地点: 福州

会议语种:中文

页码: 291-294

在线出版日期: 2005-11-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）