1064nm高反膜和减反膜的激光预处理研究
本文研究了1064nm激光预处理对高反膜和减反射膜抗激光损伤特性的影响,并探讨了多脉冲激光辐照累积损伤与激光预处理之间的关系.利用电子束蒸发技术制备了中心波长为1064nm的HfO2/SiO2高反膜和减反射膜,采用三能量台阶提升的方式进行了小光斑扫描激光预处理,并依照国际标准ISO11254-1.2对激光预处理前后样品的单脉冲和多脉冲激光损伤阈值进行了测试.结果发现,高反膜的单脉冲和和多脉冲激光损伤阈值都得到了不同程度的提升,并且单脉冲激光损伤阈值得到的增强最明显.而且发现,高反膜存在明显的累积损伤,随着激光脉冲数目的增加阈值降低.然而,减反射膜即没有表现出激光预处理的增强效果,也不存在多脉冲作用的累积损伤特性.
高反膜 减反射膜 激光预处理 激光损伤阈值 累积效果
赵元安 邵建达 张伟丽 贺洪波 范正修
中科院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800
国内会议
福州
中文
287-290
2005-11-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）