离子束溅射制备高能DPL激光薄膜
离子束溅射沉积的HfO2薄膜为微晶结构,其晶粒尺寸小于10nm.实验结果表明,氧分压是影响薄膜表面粗糙度的主要因素,过量的氧导致膜层表面形成大量的坑洞,造成散射损耗的增加.一定厚度的SiO2保护膜提高了反射膜的激光损伤阈值,改善了薄膜表面的激光损伤破坏形貌.制备的HfO2/SiO2多层膜抗DPL激光损伤阈值的峰值功率密度＞1061MW/cm2(波长532nm,脉宽80ns).
离子束溅射 氧分压 HfO2薄膜 激光薄膜
刘洪祥 熊胜明 申林 张云洞
中国科学院光电技术研究所
国内会议
福州
中文
61-64
2005-11-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）