高性能ZnS-SiO2电子溅射靶的制备
大尺寸、高性能电子溅射靶是电子及信息产业不可或缺的材料,电子靶材一直是各国优先发展的高新技术材料.光盘膜用靶材材料极易在制备过程中碎裂,并且密度越高,裂纹倾向越大.因此,高密度、高纯度、大尺寸是相互矛盾的,难以达到完美的统一.通过选择合适的成分配比、粉原料的预处理以及合理的热压工艺以及热等静压工艺制度,解决了制备过程中易出现裂纹的难题,制备了大尺寸(直径200mm)、高相对密度(大于90﹪)、高纯度、密度分布均匀和组成相满足使用要求的靶材.经镀膜考核,靶材各项性能指标能够达到镀膜使用要求,与国外同类产品相当。
电子溅射靶 ZnS-SiO2材料 热等静压 热压工艺 电子靶材 镀膜
吴胜文 葛启录 褚征军
安泰科技股份有限公司,北京,100081
国内会议
宜昌
中文
177-179
2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）