钽片的化学抛光工艺

摘要：

为了改善钽片的表面质量,采用化学抛光法,研究了影响钽片化学抛光质量的因素,并给出了钽片溶解速度与化学抛光液中酸浓度的关系.结果表明:钽片产生自钝化的条件为,还原平衡电位远高于维钝电位,微电池的阴极极化电流密度大于致钝电流密度;抛光温度为40℃～45℃时钽片表面形成致密的氧化膜,经轧制后钽片表面达到了镜面光泽。

关键词： 化学抛光法 表面粗糙度 纯钽板 表面质量 氧化膜

作者: 郑欣 熊全明 袁宝明 王新

作者单位: 西北有色金属研究院,陕西,西安,710016 青岛建筑工程学院,山东,青岛,266520

会议类型: 国内会议

会议名称: 第10届全国难熔金属学术交流会

会议地点: 宜昌

会议语种:中文

页码: 128-130

在线出版日期: 2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）