单体对大气下沉积SiOx薄膜的性能研究

摘要：

在大气压下,利用工作在16KHz的介质阻挡放电(DBD)等离子枪,以氩气为工作气体分别用四甲基硅氧烷(TEOS)、六甲基硅氧烷(HMDSO)和八甲基环四硅氧烷(D4)为单体,通过改变载气流量、等离子体放电功率等研究聚合SiOx薄膜的结构性能影响.采用红外光谱(FTIR)分析所沉积SiOx薄膜的结构,通过接触角测试了解其表面亲/疏水性能.

关键词： 大气压 DBD SiOx 单体 薄膜 红外光谱

作者: 汤文杰 韩尔立 陈强 葛袁静

作者单位: 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室,等离子体物理与材料研究室,北京,102600

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国包装工程学术会议

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 191-196

在线出版日期: 2006-08-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）