离子镀膜中的等离子体行为及其对成膜的影响

摘要：

本文着重介绍了阴极弧离子镀中,阴极弧的燃烧特性、金属等离子体的产生、电荷态的分布、离子的速度等等离子体行为,并利用TOF技术探讨了反应气体压强对等离子体的影响.同时针对离子镀中工件偏压形成等离子体鞘层等问题,讨论了鞘层的空间尺度、形状等对成膜的影响。

关键词： 离子镀膜 等离子体行为 阴极弧离子镀 电荷态 等离子体鞘层 工件偏压

作者: 田修波 骆兆军 杨士勤

作者单位: 深圳市复合材料重点实验室 哈尔滨工业大学材料学院

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届广东省真空学会学术研讨会

会议地点: 广东肇庆

会议语种:中文

页码: 57-58

在线出版日期: 2005-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）