会议专题

界面插Mn对CoFe/CrPt双层膜交换耦合的影响

用共溅射的方法制备CoFe/CrPt(X)、CoFe/Mn/CrPt(x)薄膜.通过改变反铁磁层的厚度,研究影响交换偏置的因素.结果表明:界面结构、反铁磁层厚度都对交换偏置产生重要作用.在CoFe/CrPt双层膜中,反铁磁层厚度为42nm时,界面插入一层厚度为0.55nm的Mn可得到11940A/m的交换偏置场,比插Mn前增加了6倍.

交换偏置场 界面插Mn 反铁磁层 CrPt双层膜

陈红燕 陈庆永 李岩 姜宏伟

首都师范大学,物理第,北京,100037

国内会议

2006年全国功能材料学术年会

敦煌

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165-167

2006-07-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)