O.1BiFeO3-O.9SrBi2Nb2O9薄膜的三阶非线性光学性质的研究

摘要：

采用PLD方法在双面抛光的石英基片上制备出均匀透明的0.1BiFeO3-0.9SrBi2Nb2O9薄膜,用XRD方法测得了薄膜的结晶性能.该薄膜呈(115)择优取向;用AFM表征了薄膜的表面形貌,结果表明薄膜结晶度良好,表面比较光滑,其表面方均根粗糙度为4.506nm(2μm×2μm).用单光束Z扫描技术测得了该薄膜的三阶非线性光学性质,其三阶非线性极化率的实部R(3)ex=3.78×10-9esu,虚部I(2)ex=1.02×10-9esu。

关键词： 0.1BiFeO3-0.9SrBi2Nb2O9薄膜 PLD法 Z-Scan 非线性光学性质 结晶性能

作者: 徐利 顾豪爽 王忠太 陈侃松

作者单位: 湖北大学,压电铁电材料与器件湖北省重点实验室,物理学与电子技术学院,湖北,武汉,430062

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国功能材料学术年会

会议地点: 敦煌

会议语种:中文

页码: 14-15

在线出版日期: 2006-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）