界面插入Cr层对NiFe/PtMn交换偏置的影响

摘要：

用磁控溅射法制备了NiFe/PtMn双层膜,研究了在界面加入少量的Cr对交换偏置场的影响.结果发现:在Pt成分较高时,界面加Cr对反铁磁层为临界厚度时的交换偏置场影响最大,增大了1.5倍,达到了最大值.XRD结果表明加入Cr插入层使反铁磁层具有更好的织构.同时界面加Cr减小了PtMn的临界厚度。

关键词： 临界厚度 交换偏置场 巨磁电阻 磁控溅射法

作者: 梁珂 姜宏伟

作者单位: 首都师范大学,物理系,北京,100037

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国功能材料学术年会

会议地点: 敦煌

会议语种:中文

页码: 140-142

在线出版日期: 2006-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）