有机硅/SiO2多层防护涂层的原子氧侵蚀性能研究

摘要：

在空间环境地面模拟设备中对有机硅/SiO2涂层试样进行了原子氧暴露实验,并采用光谱仪、SEM/EDS等分析手段对暴露前后试样表面的形貌和光学性能变化进行了研究.实验结果表明采用多层复合涂层可以覆盖基体表面的小的突起和微裂纹,产生一个比较平滑的表面,能够减少涂层表面的缺陷数量,从而降低了原子氧对基体的侵蚀,使得基体材料的光学镜面反射性能得到改善.采用多层复合涂层可以避免在空间环境使役过程中由于防护涂层表面存在缺陷导致AO对基体的掏蚀.即在表层裂纹处,底层的有机硅层与AO反应形成SiO2,仍可起到保护作用从而能防止基体受到侵蚀.

关键词： 原子氧 有机硅 防护涂层 SiO2涂层

作者: 多树旺 李美栓 周延春

作者单位: 江西科技师范学院,江西省材料表面工程重点实验室,江西,南昌,330013;中科院金属所,沈阳材料科学国家联合实验室,辽宁,沈阳,110016 中科院金属所,沈阳材料科学国家联合实验室,辽宁,沈阳,110016

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国功能材料学术年会

会议地点: 敦煌

会议语种:中文

页码: 805-807

在线出版日期: 2006-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）