电弧离子镀氮化铬涂层的沉积工艺研究

摘要：

氮化铬陶瓷涂层具有低的磨擦系数、高的硬度、良好的热稳定性和抗腐蚀性,被认为是最有希望的TiN替代材料之一.本研究利用脉冲偏压电弧离子镀设备,以不同的沉积工艺在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体上沉积了氮化铬陶瓷涂层,研究了基体上脉冲偏压的施加及沉积过程中反应气体N2分压对氮化铬涂层的表面熔滴、沉积速率及相结构的影响规律.探讨了偏压及N2分压在涂层沉积中的作用机制.

关键词： 电弧离子镀 氮化铬 N2分压 双极脉冲偏压

作者: 李明升 冯长杰 王福会

作者单位: 江西科技师范学院,江西省材料表面工程重点实验室,江西,南昌,330013;中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016 中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国功能材料学术年会

会议地点: 敦煌

会议语种:中文

页码: 792-795

在线出版日期: 2006-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）