约束刻蚀剂层技术最新进展——用于规整微结构图形加工刻蚀

摘要：

本文简要介绍了电化学应用于微系统技术中的几个例子,着重介绍了约束刻蚀剂层技术(CELT)在微加工方面的最新研究进展,用规整微结构模板对半导体材料的加工刻蚀.

关键词： 电化学 约束刻蚀剂层技术 CEIT

作者: 孙建军 黄海苟 田中群 田昭武 蒋利民 罗瑾 穆纪千 叶雄英 周兆英 张涛 孙立宁

作者单位: 厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室,化学系,物理化学研究所(厦门) 清华大学精密仪器系(北京) 哈尔滨工业大学机器人研究所(哈尔滨)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国微米/纳米技术学术会议

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 54-55

在线出版日期: 2000-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）