基于分子源SrTiO3薄膜同质外延生长的Monte Carlo模型Ⅰ:生长机制、模型与算法

摘要：

提出了一种在极低的生长速率下(例如分子外延技术),以SrTiO3为代表的ABO3型氧化物薄膜的生长机理,并针对这一生长机制,给出了基于MonteCarlo方法的三维模型和模拟算法.模拟基于SolidonSolid模型,并采用周期性的边界条件;模拟中通过库仑作用势引入了基底对沉积分子的影响;MonteCarlo事件由沉积事件、扩散事件、吸附成核事件组成;分子扩散能力与扩散激活能相关.

关键词： Monte Carlo模拟 薄膜外延生长 分子源 SrTiO3薄膜 氧化物薄膜 分子扩散

作者: 张青磊 朱基亮 谭浚哲 于光龙 吴家刚 朱建国 肖定全

作者单位: 四川大学材料科学系,成都,610064

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电介质物理、材料与应用学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 129-133

在线出版日期: 2005-10-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）