MEVVA磁过滤等离子技术制备的Fe纳米颗粒薄膜结构

摘要：

本文利用MEVVA磁过滤等离子沉积技术制备了纳米厚度的Fe颗粒薄膜,并利用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对其结构进行了系统分析.分析结果表明,由于磁过滤的作用,所制备的Fe纳米薄膜结构均匀,不存在由于电弧蒸发引起的大颗粒沉积现象.等离子体不同沉积角度直接影响纳米薄膜的微观结构,随着沉积角度从90°下降到30°,纳米薄膜的结构由起伏变化的纳米聚晶结构逐渐转变为尺度和表面分布均匀的纳米晶结构.经过高温热处理,相比于垂直沉积的纳米薄膜,30°倾斜沉积制备的薄膜微观结构中大晶粒的数量显著下降,形成颗粒分布较好的纳米颗粒薄膜.

关键词： MEVVA技术 Fe纳米薄膜 等离子技术 纳米颗粒

作者: 程国安 刘华平 赵勇 郑瑞延 梁昌林 陈亮

作者单位: 北京师范大学,射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京,100875;北京师范大学,材料科学与工程系,北京,100875 北京师范大学,射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京,100875;北京师范大学,材料科学与工程系,北京,100875;南昌大学,物理系,南昌,330047

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国青年材料科学技术研讨会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 1816-1821

在线出版日期: 2005-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）