电沉积Ni-20﹪Fe纳米磁性薄膜性能的研究
纳米晶材料电沉积是在传统电沉积工艺的基础上,通过控制适当的工艺条件,最终获得具有各种性能的薄膜材料的过程.采用电沉积方法制备Ni-20﹪Fe磁性合金薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM)对薄膜的表面形貌进行观察,并且对样品做了透射电子显微镜(TEM)观察,同时分别对薄膜样品进行了X射线衍射分析(XRD)和差热分析(DTA),以及磁滞回线的测量.实验结果表明:电沉积方法制备的Ni-20﹪Fe合金薄膜表面光亮、致密,外观平整、成分均匀.薄膜中Ni-Fe金属间化合物的粒子尺寸在30nm左右,得到了很好的纳米薄膜,并且制备的纳米薄膜具有优良的软磁性能,矫顽力达到21A/m.
纳米薄膜 电沉积 Ni-Fe合金 磁性薄膜 薄膜性能
刘天成 孙克 李德仁 卢志超
钢铁研究总院安泰科技股份有限公司,北京,100081
国内会议
山东烟台
中文
350-355
2005-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）