等离子体制备低表面能薄膜性能研究

摘要：

以六甲基二硅氧烷为反应单体,采用连续与脉冲射频(RF)等离子体两种放电模式聚合低表面能薄膜,研究了连续放电不同功率、脉冲放电不同脉冲宽度和间隔对聚合薄膜性能的影响.通过对薄膜性能的表征:接触角的测量,红外光谱、X光电子能谱和原子力显微镜的结构和表面分析,发现在低输入功率和脉冲等离子体大与空比条件下,可得到表面能低、疏水性能好、表面结构可控的低表面能薄膜。

关键词： 等离子体 等离子体聚合 结构性能 六甲基二硅氧烷 低表面能薄膜 薄膜性能

作者: 付亚波 陈强 葛袁静

作者单位: 北京印刷学院,等离子体物理与材料研究室,北京,102600

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国物理学会静电专业委员会第十二届学术年会

会议地点: 青岛

会议语种:中文

页码: 254-258

在线出版日期: 2005-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）