三十年我国整理技术的回顾与展望

摘要：

本文回顾了我国后整理的发展过程,重点介绍了应用于生产的高分子型整理剂的合成与应用,以及机械整理、免烫整理、阻燃整理、涂层整理、抗菌整理和抗紫外线整理等助剂及工艺技术.展望了后整理工艺的前景,并对我国印染后整理今后的发展提出了建议.

关键词： 印染整理 整理工艺 整理剂

作者: 杨栋樑

作者单位: 全国染整新技术应用推广协作网

会议类型: 国内会议

会议名称: 上海印染新技术交流研讨会暨上海印染2005年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 252-257

在线出版日期: 2005-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）