真空等离子体装备技术及应用

摘要：

本文从真空等离子体装备技术及其应用进行了综述.重点对等离子体沉积(如磁控溅射,过滤阴极电弧沉积,等离子体化学气相沉积),等离子体刻蚀(电容式和电感式)及等离子体表面处理技术进行了叙述,同时介绍了用于制备纳米材料的一些新技术。

关键词： 真空等离子体 薄膜 纳米材料 等离子体沉积 磁控溅射 等离子体刻蚀

作者: 孙卓 倪晟 Y.Sun

作者单位: 上海纳晶科技有限公司,华东师范大学纳米功能材料和器材应用研究中心,上海市中山北路3663号,200062

会议类型: 国内会议

会议名称: 上海市真空学会成立20周年暨第九届学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 83-86

在线出版日期: 2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）