化学镀Ni-P合金耐蚀性的电化学研究

摘要：

本文在乙酸盐缓冲体系中通过改变柠檬酸的浓度得到不同P含量的化学镀Ni-P合金镀层,应用Tafel曲线研究了不同P含量的Ni-P镀层在3％NaCl、1.0mol/LH2SO4、1.0mol/LNaOH溶液中的腐蚀电化学行为.结果表明在中性NaCl和H2SO4溶液中,高磷镀层(P12.0wt％)的腐蚀电位比中磷镀层(P8.5wt％)的腐蚀电位更正,而在NaOH溶液中,高磷镀层的腐蚀电位比中磷镀层的更负,但在三种腐蚀介质中,高磷镀层的阳极腐蚀电流密度都低于或接近于中磷镀层.

关键词： 化学镀 镍磷合金 塔菲尔曲线

作者: 牛振江 王费华 郁平 李则林 杜小光

作者单位: 浙江师范大学物理化学研究所,浙江,金华,321004 浙江广播电视大学青田分校,浙江,青田,323900

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年全国电子电镀学术研讨会

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 229-230

在线出版日期: 2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）