Ni-纳米TiO2复合电沉积研究

摘要：

本文通过研究Ni-TiO2微粒复合电沉积过程中的pH值、电流密度、搅拌速度、镀液中TiO2的含量及添加剂对复合沉积层的表观和沉积层中TiO2的含量的影响,得到了复合微粒含量范围在5-10％且表观形貌良好的Ni-纳米TiO2复合沉积层.并讨论了金红石型和锐钛型TiO2与Ni形成的复合沉积层的共同特点和区别点.此外,采用粒径为2-3um之间的TiO2微粒与镍的共沉积来了解微粒的粒径对镀层中微粒共析量的影响,制备出了沉积层中微米级TiO2共析量为10-20wt％的复合沉积层.结果表明,在复合沉积层中,微料级的TiO2共析量大于纳米级TiO2共析量且微粒在沉积层中的分布更均匀.

关键词： 纳米膜 二氧化钛 电沉积

作者: 李卫东 杨磊 王志军 吕有才

作者单位: 武汉风帆电镀技术有限公司;武汉市汉口新天门墩路17号

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年全国电子电镀学术研讨会

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 120-127

在线出版日期: 2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）