TiN膜离子注入与沉积工艺研究

摘要：

采用离子注入、沉积、动态混合注入沉积工艺,在硅基体上制备TiN膜层.用纳米划痕法检测成膜质量,用扫描电镜观察划痕形貌.对比分析结果表明,动态混合离子注入沉积工艺对提高膜层与基体的结合性能效果显著.

关键词： 离子注入 沉积工艺 TiN膜 纳米划痕 成膜质量

作者: Huafang Zhang Hongchen Wu Yanli Jiang Guojia Ma Liping Peng

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年高能束流加工技术国际研讨会

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 255-258,281

在线出版日期: 2004-09-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）