ARC工艺技术研究

摘要：

本文介绍了在半导体制造中应用于金属互联工艺的ARC(抗反射层或防反射层)技术.通过对抗反射层基本原理的说明,结合工艺实验,来详细、深刻地理解抗反射技术.最后给出了可以用于0.5um工艺生产的ARC结构及用于衡量ARC性能的参数.

关键词： 光刻工艺 抗反射层技术 半导体工艺 集成电路

作者: 温万良 陆锋 周林

作者单位: 无锡微电子科研中心,214035

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电子学会第八届青年学术年会暨中国电子学会青年工作委员会成立十周年学术研讨会

会议地点: 合肥

会议语种:中文

页码: 142-146

在线出版日期: 2002-08-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）