PSII法制备DLC膜的纳米摩擦性能研究

摘要：

　　本文采用等离子源离子注入(PSII)技术在硅衬底上制备薄膜,利用Raman光谱表征制备薄膜的类金刚石特性.详细介绍了采用原子力显微镜(AFM)进行纳米摩擦实验的原理,并利用其研究制得DLC膜的纳米摩擦特性.研究结果表明,制得DLC膜的摩擦系数较小,具有耐磨损性能,而且反应气体流量对薄膜的纳米摩擦特性有较大影响.PSII技术制备的DLC膜具有较好的纳米摩擦特性,并有望使可动MEMS的摩擦问题得到真正意义上的突破。

关键词： 类金刚石膜 原子力显微镜 纳米摩擦 等离子源离子注入

作者: 李新 唐桢安 徐军 鲍海飞

作者单位: 大连理工大学,大连,116024;沈阳工业大学,沈阳,110023 大连理工大学,大连,116024 中国科学院上海微系统与信息技术研究所,上海,200050

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国实验力学学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 43-46

在线出版日期: 2005-07-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）