偏压对镁合金表面磁控溅射CrAlTiN膜层的影响
使用闭合场非平衡磁控溅射离子镀体系于镁合金表面制备了CrAlTiN膜层,检测了膜层厚度和硬度,在扫描电子显微镜(SEM)下观察了膜层的表面形貌和截面形貌,使用了X衍射仪分析了膜层的相组成.结果表明:薄膜组织为纤维状柱状晶组织,随着偏压增大,膜层表面致密性增强,颗粒头部平滑,颗粒间孔洞减少;CrAlTiN薄膜具有与CrN相同的晶体结构,在偏压为40V时出现了(111)晶面的择优取向,在60V时出现了(220)晶面的择优取向.
镁合金 磁控溅射 偏压 铬铝钛氮薄膜
陈迪春 蒋百灵
西安理工大学材料科学与工程学院(陕西西安)
国内会议
西安
中文
211-214
2005-08-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）