脉冲电镀制备镧、锕系元素厚源(靶)

摘要：

本文报道了利用脉冲电镀法在有机溶剂DMF(二甲基甲酰胺)介质中制备U靶.开展了脉冲电镀参数、电流密度、沉积时间、电解液浓度等沉积参数的研究,初步确定了最佳的电镀U靶的条件,通过一次电镀成功制得厚度3-4mg/cm<”2>的铀靶.

关键词： 锕系元素靶 脉冲电镀 能量分辨率 靶面密度

作者: 杨春莉 苏树新 张生栋

作者单位: 中国原子能科学研究院(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国核化学与放射化学学术讨论会

会议地点: 珠海

会议语种:中文

页码: 64-65

在线出版日期: 2005-04-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）