直流磁控溅射沉积Fe-N薄膜的结构及磁性研究

摘要：

本文采用直流磁控溅射方法,以Ar/N<,2>作为放电气体,在玻璃衬底上沉积了γ′-Fe<,4>N单相薄膜.利用X射线衍射(XRD)和超导量子干涉仪(SQUID)研究了不同溅射时间对薄膜的结构及磁性性能的影响.结果表明具有铁磁性能的γ′-Fe<,4>N单相薄膜饱和磁化强度随溅射时间没有发生明显变化,矫顽力随溅射时间的增加,即薄膜厚度的增加而显著增大.

关键词： 膜材料 氮化铁薄膜 溅射法 饱合磁化强度 矫顽力

作者: 王丽丽 郑伟涛 王欣 马楠

作者单位: 吉林大学材料科学学院(长春);长春大学应用理学院(长春) 吉林大学材料科学学院(长春)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 993-995

在线出版日期: 2004-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）