气离溅射离子镀制氮化钛

摘要：

本文介绍了气体离子源增强磁控溅射(气离溅射)反应离子镀膜技术和系统配置,特别是首次提出空分气离溅射的新概念,实现了磁控溅射金属镀膜过程和气体离子轰击化学反应过程在真空室内空间上的分离,从而保证空分气离溅射反应离子镀膜过程的长时间稳定性、重复性和一致性.当磁控溅射源采用中频电源驱动、最新开发的气体离子源采用脉冲直流电源后,实现了最佳的设备组合,可镀制出高品质的TiN膜层.

关键词： 离子镀膜 氮化钛膜 气离溅射 脉冲直流 阳极层流

作者: 董骐 罗蓉平 张守忠 杜建 钟钢 田凯 文学春 刘祥武

作者单位: 北京丹普表面技术有限公司(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 981-988

在线出版日期: 2004-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）