不同入射离子能级下四面体非晶碳微观结构与电子结构研究
由基底偏压所决定的入射离子能量是过滤阴极真空弧(FCVA)系统沉积薄膜的关键因素之一.为了研究离子能量对于薄膜性质的影响,本文从实验和理论两个方面进行了探讨分析.首先由FCVA系统得到基底偏压为0~2000V的五组样品,并对其进行了EELS测试,由基底偏压与入射离子能量的转化公式,以及能量损失谱对于sp<”3>杂化成分和密度的计算,我们得到sp<”3>成分和密度随入射离子能量的变化.进一步分析表明,薄膜中sp<”2>杂化原子是呈微小的聚集状态分布在sp<”3>结构的骨架之中的.为更加精确的发现薄膜结构与沉积条件的信息,我们应用紧束缚分子动力学(TBMD)对这一体系进行了理论模拟,给出了四配位非晶碳膜的sp<”3>成分及密度相对入射离子能量的变化规律,与实验取得了很好的吻合.
类金刚石薄膜 四面体非晶碳 电子能量损失 分子动力学 微观结构
郑冰 郑伟涛 朱嘉琦
吉林大学材料科学与工程学院(长春) 哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所(哈尔滨)
国内会议
北京
中文
1021-1023
2004-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）