不同精抛布种类及抛布使用时间对硅片LPD缺陷影响

摘要：

在一定的抛光工艺条件下,精抛光布的选择及精抛光布使用时间的控制直接影响到最终抛光片表面小尺寸LPD缺陷的多少,因此通过实验确定适宜于自身抛光工艺的精抛布以及适宜的抛光布使用时间很有必要.

关键词： 硅片抛光 亮点缺陷 抛光布 抛光工序

作者: 史舸 刘振淮 王文 齐旭东 熊诚雷 黄振飞

作者单位: 麦斯克电子材料有限公司(洛阳)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 89-91

在线出版日期: 2004-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）