磁控溅射制备低红外发射率TiO<,2>/Ag/TiO<,2>纳米多层膜研究
利用磁控溅射在玻璃衬底上制备了具有良好光谱选择性透过的TiO<,2>/Ag/TiO<,2>纳米多层膜.利用X射线衍射、UV-VIS-NIR分光光度计、红外发射率测量仪等对样品进行表征,优化了制备薄膜的工艺条件.同时考察了薄膜的光催化特性.结果表明:样品在可见光透过率最高可达94.5﹪,555nm波长处最高达93.5﹪,2500nm波长处反射率>65﹪.8~14μm波段红外发射率ε<0.2.Ag层厚度增加使可见光高透过率波段变窄,透过率下降,内层及外层TiO<,2>厚度的变化引起薄膜在可见光的透过峰位置及强度发生变化,外层的影响明显高于内层.薄膜具有良好的光催化降解罗丹明B的能力,其性能优于单纯的TiO<,2>薄膜.
纳米多层膜 光催化特性 磁控溅射 红外发射率 二氧化钛
刘海鹰 刁训刚 杨盟 王天民
北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京)
国内会议
北京
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219-225
2004-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）