丝状炭材料的制备与表征
采用化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)方法,在未引入催化剂的情况下,制备出形貌各异的丝状炭材料.利用扫描电镜、X-射线衍射(XRD)和偏光显微镜对其微观形貌及结构进行了表征.研究了制备工艺条件(生长温度、碳源浓度、气体总流量以及稀释气体种类)对其生长的影响.
纳米材料 丝状炭材料 气相沉积 热解炭 制备工艺
刘树和 白朔 成会明
中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室(辽宁沈阳)
国内会议
西宁
中文
90-95
2005-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)