MPCVD製程功率对成长奈米碳管及场发射特性的影响
本研究利用直流磁控溅镀方式製備镍膜做为催化剂,使用甲烷、氢氣为反应气体,利用微波电浆化学气相沉积法成长奈米碳管,并探讨对制程功率对奈米碳管的外观及结构的影响,并且在低温(~500℃)不施加任何外加偏壓下合成出高密度的奈米碳管,并量测其场发射效应之起始电壓与电流密度.
纳米材料 纳米碳管 气相沉积法 微波电浆
盧阳明 羅啟銘 邱松茂
崑山科技大学电子工程系,奈米技术研究发展中心 金属工业研究发展中心,精微成形研发处,处理组
国内会议
西宁
中文
453-455
2005-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)