Fe/Mo多层膜的微观结构与应力研究
本文采用电子束蒸镀技术制备了Fe/Mo金属多层膜,利用TEM等手段研究了Fe与Mo层厚度对薄膜微结构应力的影响.Fe与Mo层厚度相差较大而Fe单层膜薄到1.2nm时,较薄的Fe在较厚的Mo层上外延生长.随着Mo厚度的变薄,Mo/Fe厚度比减少,Mo层没有足够的自由能约束Fe原子,Fe层形成稳定的bcc结构.当Fe外延生长在Mo层上时,晶格畸变导致铁钼层间产生很大的应力,使得薄膜出现均匀的细微裂纹.用胡克定律估算了其应力范围,约10<”4>MPa数量级.
Fe/Mo多层膜 微结构 应力 电子束蒸镀技术 磁性多层膜 组元金属层厚
李丹 贺汀 潘峰
清华大学材料系先进材料教育部重点实验室,清华大学材料与工程系(北京)
国内会议
宁波
中文
76-77
2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）