纳米硅镶嵌复合薄膜退火前后的微结构及发光特性研究
采用减压化学气相沉积方法,依靠纯N<,2>稀释的SiH<,4>气体的热分解反应,在玻璃表面生长了纳米硅镶嵌的复合薄膜.实验研究了退火前后薄膜样品的结晶状态和光致发光特性.结果表明,未退火样品的光致发光特性随沉积温度升高反而减弱.退火温度T<,a>>600℃时,晶体趋势明是,T<,a><600℃时,退火温度对晶体化的贡献不大,但提高退火温度或延长退火时间可以增加PL强度.同时在退火样品中发现Si-O<,x>的单晶结构.通过Raman、PL、TEM的分析比较,认为在退火前后分别有两种不同的发光机制起主导作用.
纳米硅 化学气相沉积 退火 光致发光 纳米硅复合薄膜
肖瑛 刘涌 韩高荣
浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室(杭州)
国内会议
宁波
中文
71-75
2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）