AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究

摘要：

基于实现在线镀膜的目的,研究了以TiCl<,4>为钛源,用AP-CVD法在玻璃基板上制备TiO<,2>薄膜的工艺.利用扫描电子显微(SEM)技术和X射线衍射(XRD)技术,研究了不同基板反应温度下薄膜的表面形貌和晶体结构,分析了表面形貌和结构对亲水性的影响.结果表明通过改变反应温度可以控制锐钛矿和金红石的相对量,薄膜的亲水性和表面形貌、粗糙度有密切的关系.

关键词： 二氧化钛薄膜 AP-CVD 亲水性 TiCl<,4> 常压化学气相沉积 扫描电子显微 X射线衍射

作者: 刘鹏 汪建勋 翁文剑 韩高荣

作者单位: 浙江大学材料系硅材料国家重点实验室(杭州)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会薄膜技术学术研讨会

会议地点: 宁波

会议语种:中文

页码: 60-62

在线出版日期: 2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）