扩散阻挡层与离子束轰击能量对Cu-Cr合金膜结合强度的影响

摘要：

用离子束辅助磁控溅射和离子束溅射共沉积的方法分别在TiN、CrN扩散阻挡层上沉积了Cu-Cr合金膜.用滚动接触疲劳实验评价结合强度,结果发现:扩散阻挡层可明显提高结合强度;CrN上的Cu-Cr膜的结合强度最高;高能离子轰击得到的Cu-Cr合金膜具有更宽的过渡层而具有更高的结合强度.

关键词： 扩散阻挡层 Cu-Cr合金膜 离子束辅助沉积 铜铬合金膜

作者: 宋忠孝 鞠新华 徐可为 范多旺

作者单位: 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室(西安) 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室(西安) 兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室(兰州)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会薄膜技术学术研讨会

会议地点: 宁波

会议语种:中文

页码: 4-6

在线出版日期: 2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）