脉冲工艺在薄膜制备中的应用

摘要：

本文综述了国内外脉冲工艺在电弧离子镀和磁控溅射中的应用.脉冲工艺为电弧离子镀净化大颗粒、增强膜基结合力、改善组织形貌、降低沉积温度等起到了重要作用.电弧或溅射离子镀高的离化率为脉冲工艺提供了最好的应用条件.最后,对脉动工艺在薄膜制备中的应用前景进行了展望.

关键词： 电弧离子镀 脉冲工艺 低温沉积 磁控溅射

作者: 赵彦辉 林国强 董闯 闻立时

作者单位: 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室(辽宁大连)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会薄膜技术学术研讨会

会议地点: 宁波

会议语种:中文

页码: 33-37

在线出版日期: 2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）