石英衬底上的BP<,x>N<,1-x>薄膜沉积及P对其光学带隙调制的研究
以光学石英为衬底,采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积方法(HF-PECVD)沉积了BP<,х>N<,1-х>薄膜.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDAX)、紫外-可见(UV-VIS)等测试手段研究了薄膜的化学组成、结晶状况,以及P元素掺杂对BP<,х>N<,1-х>薄膜材料光学带隙的调制规律.结果表明,所沉积薄膜具有多晶团聚、定向生长的特点,其表面形貌随时间而变化,最后发展成多晶球状密堆成膜,与石英衬底结合牢固.BP<,х>N<,1-х>薄膜的磷元素相对含量随磷烷流量增加而增加,光学带隙相应窄化.通过控制磷的掺杂量可以有效调整该薄膜材料的光学带隙.
BP<,x>N<,1-x>薄膜 磷掺杂 光学带隙 化学气相沉积法
张溪文 徐世友 韩高荣
硅材料国家重点实验室,浙江大学材料系浙江大学(杭州)
国内会议
宁波
中文
24-27
2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）