外延生长工艺条件对图形完整性的影响

摘要：

图形畸变和漂移是外延工艺中常见的缺陷.除此之外,发现图形台阶高度也是重要的参数,它可以简单直接地表明是否图形完整.本文从理论上探讨了图形不完整的根本原因.实验结果也验证了这些观点,同时,该技术已成功地应用于新品开发.

关键词： 外延 台阶高度 图形畸变 图形漂移

作者: 曾庆光 侯永生 张丽婴 冯慧钦

作者单位: 上海贝岭微电子制造有限公司(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 上海市有色金属学会、上海市金属学会半导体材料专委会学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 24-29

在线出版日期: 2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）