气体电子倍增器(GEM)的性能研究

摘要：

本文采用真空热蒸发法在50μm的聚酰亚胺薄膜上蒸镀5~8μm的铜层,并用激光掩模打孔法在其上制备了孔径80μm、孔间距285μm的GEM复合薄膜,成功组装了20mm×20mm的GEM探测器.对GEM探测器在<”55>Fe X射线(5.9keV)辐照下进行了脉冲幅度分布谱测试,讨论了漂移区电场、AGEM电场、收集区电场对探测器记数的影响.

关键词： 电子倍增器 X射线 工作电场 激光掩膜打孔 漂移区电场

作者: 苏青峰 夏义本 王林军 汪琳 刘健敏 史伟民

作者单位: 上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 上海市有色金属学会、上海市金属学会半导体材料专委会学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 105-108

在线出版日期: 2004-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）