会议专题

电子聚焦电场增强辉光等离子体离子注入研究

本文提出了一种新型的等离子体基离子注入方法--电子聚焦电场增强辉光等离子体离子注入,介绍了该方法的基本结构,并计算了该方法电场等势面分布,采用该方法,进行了硫元素的离子注入,采用X射线光电子能谱深度剥层分析的方法测量了注入硫的深度分布,并采用TRIM程序对注入结果进行了模拟对比分析.

辉光等离子体 离子注入 电场

李刘合 朱剑豪

北京航空航天大学,机械学院,材料加工与控制系(北京) 香港城市大学,应用物理及材料系,等离子体实验室(香港)

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225-228

2005-05-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)