倾斜溅射制备TbFe薄膜的磁力显微镜研究
磁力显微镜(MFM)作为研究表面磁结构的有力工具广泛地应用于磁性薄膜的研究中,TbFe磁致伸缩薄膜在实际应用中要求易磁化轴平行于膜面,以具有较低的面内饱和场H<,s>,传统的成膜技术难以实现这一目标,采用倾斜溅射方法制备TbFe薄膜可有效降低面内饱和场H<,s>.通过测量样品的磁滞回线可以发现,易磁化轴随着溅射角度的增加逐渐偏离样品的法线方向,而取向于平行膜面.本研究工作利用MFM研究了不同溅射角度得到的TbFe薄膜的磁畴结构.发现薄膜的磁畴结构随着溅射角度的增加逐渐由垂直畴转化为水平畴,与磁滞回线测量得到的易轴方向发生偏转的结果相吻合.
磁力显微镜 TbFe薄膜 倾斜溅射
陈琨 王志红 张金平 周宇
电子科技大学微电子与固体电子学院纳米技术中心(四川成都)
国内会议
秦皇岛
中文
3349-3351,3355
2004-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）