磁控溅射工艺参数对氧化钛薄膜晶体结构的影响

摘要：

用非平衡磁控溅射技术制备氧化钛薄膜.研究了基体偏压、沉积温度、基体性质及溅射功率对薄膜晶体结构的影响.结果表明,到达基体的粒子的能量和离子/原子比是影响氧化钛薄膜晶体结构的主要因素;而到达基体的离子/原子比是生成完全金红石结构氧化钛薄膜的决定性因素.

关键词： 氧化钛薄膜 非平衡磁控溅射 晶体结构 离子/原子到达比

作者: 徐禄祥 冷永祥 黄楠

作者单位: 西南交通大学材料科学与工程学院,材料先进技术教育部重点实验室(四川成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届中国功能材料及其学术会议

会议地点: 秦皇岛

会议语种:中文

页码: 3143-3145

在线出版日期: 2004-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）